山西TT双波长光清洗灯

山西TT废气处理技术中心紫外光清洗灯的光清洗技术原理是利用**化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的**物质，经过光清洗后的材料表面可以达到"原子清洁度"。清洗时，使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送，上方装置低压紫外线灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量愈多，其表面水接触愈小，成反比关系。
紫外光清洗技术的应用主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法较为合适。
主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。
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